Установки плазменной очистки — принцип работы, конструкция, области применения установки
Ионизированный газ привел к созданию технологий, способных повлиять на структуру материалов. Установки плазменной очистки оказывают механическое, химическое и ультрафиолетовое воздействие. Обработка отразится на адгезии поверхности и увеличении свободной энергии.
Особенности плазменной обработки
Для создания плазмы потребуется использовать вакуум. После закачки газа подается электрический разряд для появления плазмы низкого давления. Проведение ионной бомбардировки способствуют решению нескольких задач:
- Исчезают окислы, частички масел и жиров;
- Проводится обработка участка для дальнейшего склеивания, сварки или пайки;
- Металлическая поверхность будет готова к нанесению защитного слоя (лака).
Выпускают компактные настольные и промышленные установки плазменной очистки для включения в системы непрерывного цикла. Приборы созданы из сплавов, выдерживающих высокое давление, температуру и агрессивную среду. Применяются в химической, электронной, текстильной, полиграфической отраслях. Очистка затрагивает керамику, металлы, пластик и полимерные изделия.